硅溶胶成分与配方检测

  发布时间:2025-05-06 14:15:49

检测项目

硅溶胶核心检测体系包含三大类共12项指标:

基础物化指标:二氧化硅含量(20-50%)、固含量(15-60%)、钠离子残留量(≤0.3%)

分散特性指标:粒径分布(5-100nm)、Zeta电位(-30~-50mV)、比表面积(50-400m²/g)

应用性能指标:凝胶时间(2-48h)、粘度(3-200mPa·s)、密度(1.1-1.3g/cm³)、pH值(8.5-10.5)

安全环保指标:重金属含量(As≤3ppm/Pb≤10ppm)、游离碱含量(≤0.5%)

检测范围

分类维度具体类型典型参数要求
应用领域铸造用硅溶胶粒径40-80nm,粘度25-45mPa·s
电子级硅溶胶金属杂质≤0.1ppm,粒径≤20nm
涂料用硅溶胶固含量≥30%,pH9.0±0.5
物理形态液态体系需测试沉降稳定性(离心3000rpm/30min)
粉末体系复溶时间≤15min,含水率≤5%
特殊改性型有机改性度(0.5-15wt%)、接枝率(≥85%)

检测方法

二氧化硅定量分析

重量法:马弗炉高温灼烧(800℃±25℃)后计算残留物质量比

XRF光谱法:建立标准曲线进行快速无损测定

粒径表征技术

动态光散射(DLS):测量布朗运动导致的散射光波动

透射电镜(TEM):直接观测粒子形貌及尺寸分布

离子残留检测

ICP-MS法:检出限达0.01ppb级金属元素分析

离子色谱法:准确测定Na⁺/K⁺/Cl⁻等无机离子含量

流变特性测试

旋转粘度计:测量不同剪切速率下的粘度变化曲线

振荡模式测试:确定凝胶点及触变恢复特性

检测仪器

高分辨透射电镜(HR-TEM)

配备EDS能谱附件,实现纳米级粒子形貌观测与元素面分布分析,加速电压200kV时分辨率可达0.2nm。

激光粒度分析仪

采用Mie散射理论模型,测量范围1nm-10μm,配备自动温控系统(5-60℃),支持动态/静态光散射双模式。

同步热分析仪(TGA-DSC)

联用热重与差示扫描量热技术,升温速率0.1-100K/min,可同步分析脱水过程与相变温度。

流变仪系统

配备锥板测量系统(直径40mm/角度1°),应变控制精度±0.5%,支持振幅扫描/频率扫描/蠕变恢复等多模式测试。

微波消解-ICP联用系统

密闭消解罐耐压800psi,四通道质量分析器实现70余种元素同步检测,检出限达ppt级别。

全自动电位滴定仪

配备复合pH电极与钠离子选择电极,滴定精度±0.1μL,支持动态等当点识别算法。

检测服务流程

沟通检测需求:为精准把握客户需求,我们会仔细审核申请内容,与客户深入交流,精准识别样品类型、明确测试要求,全面收集相关信息,确保无遗漏。

签订协议:根据沟通确定的检测需求及商定的服务细节,为客户定制包含委托书及保密协议的个性化协议。后续检测严格依协议执行。

样品前处理:收到样品后,开展样品预处理、制样及标准溶液制备等前处理工作。凭借先进仪器设备和专业技术人员,科学严谨对待每个细节,保证前处理规范准确。

试验测试:此为检测核心环节。运用规范实验测试方法精确检测每个样品,实验设计与操作均遵循科学标准,保障测试结果准确且可重复。

出具报告:测试结束立即生成详尽检测报告,经严格审核确保结果可靠准确,审核通过后交付客户。

我们秉持严谨踏实的态度,提供高品质、专业化检测服务。服务全程可追溯,严格遵守保密协议,保障客户满意度与信任度。

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