粒子束聚焦分析检测去哪做?中析研究所科研实验室,可以为您提供粒子束聚焦分析检测服务,出具原始数据报告,支持全国范围扫码查询。
光学显微镜法:利用可见光通过透镜系统对粒子束聚焦后的样品进行成像,通过目镜或相机观察和分析粒子的形态、大小、分布等特征。
扫描电子显微镜法:用聚焦的高能电子束扫描样品表面,激发出各种物理信号,如二次电子、背散射电子等,通过检测这些信号来获得样品表面的高分辨率图像,从而分析粒子的大小、形状、表面结构和分布等信息。
透射电子显微镜法:将电子束透过薄样品,由于样品对电子的散射和吸收等作用,使得透过样品的电子束强度分布发生变化,通过对这些电子束成像来分析样品内部的微观结构,包括粒子的晶体结构、晶格缺陷等。
原子力显微镜法:利用微悬臂感受和放大样品表面与针尖之间的相互作用力,通过检测微悬臂的形变来获取样品表面的形貌信息,可用于测量粒子的高度、形状和表面粗糙度等。
激光粒度分析法:当激光束照射到粒子群时,粒子会使激光发生散射,散射光的角度和强度与粒子的大小有关,通过测量散射光的分布来计算粒子的粒度分布。
动态光散射法:基于溶液中粒子的布朗运动,当激光照射到粒子上时,散射光会因粒子的运动而产生多普勒频移,通过测量散射光强度的涨落随时间的变化来分析粒子的扩散系数,进而得到粒子的粒径分布。
X 射线衍射法:当 X 射线照射到晶体样品时,会发生衍射现象,根据衍射花样可分析晶体的结构和相组成,从而确定粒子的晶体结构、晶格参数等信息。
电子衍射法:与 X 射线衍射类似,利用电子束与晶体相互作用产生的衍射现象来分析粒子的晶体结构,常用于透射电子显微镜中对纳米粒子的结构分析。
能量色散谱法:当电子束轰击样品时,样品中的元素会产生特征 X 射线,通过测量这些特征 X 射线的能量和强度来确定样品中元素的种类和相对含量,可用于分析粒子的化学成分。
波谱仪分析法:利用晶体对 X 射线的衍射作用,将不同波长的 X 射线分开并进行检测,通过测量特征 X 射线的波长和强度来确定样品中元素的种类和含量。
半导体芯片、集成电路、太阳能电池、发光二极管、晶体管、芯片封装材料、纳米材料、纳米颗粒、纳米线、量子点、石墨烯、碳纳米管、金属粉末、陶瓷粉末、催化剂、催化剂载体、磁性材料、磁性纳米粒子、荧光材料、光学晶体、光学薄膜、超导材料、电子陶瓷、压电材料、铁电材料、生物材料、生物纳米粒子、药物载体、细胞、病毒、蛋白质、DNA、RNA、高分子材料、聚合物微球、复合材料、纳米复合材料、薄膜材料、涂层材料、金属有机框架材料、沸石分子筛、气凝胶、微机电系统(MEMS)、微光机电系统(NEMS)、光电器件、传感器、探测器等。
检测周期:7-15个工作日
推荐项目:指标检测、性能测试、理化性能、成分分析等
聚焦离子束系统是一种将微分析和微加工相结合的新技术,在亚微米级器件的设计、工艺控制和失效分析等诸多领域发挥着非常重要的作用,聚焦离子束的精确定位、显微观测和细微加工功能大大提高了微电子工业上材料、工艺、器件分析的精度和速度, 目前已成为失效分析的一大利器。
GB/T 34326-2017 表面化学分析 深度剖析 AES和XPS深度剖析时离子束对准方法及其束流或束流密度测量方法
ISO 16531-2013 表面化学分析.深度剖析.原子发射光谱(AES)和光电子能谱(XPS)中深度剖析用电流或电流密度的离子束校正和相关测量方法
ASTM E1577-2011 用于表面分析的离子束参数报告的标准指南
ASTM E684-2004 固体表面溅射深度仿形加工用大直径离子束的电流密度近似测定的标准规程
ASTM E1577-2004 用于表面分析的离子束参数报告的标准指南
1、报告无“研究测试专用章”或公章无效,报告无防伪二维码无效;
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