偏硅酸检测

检测项目

偏硅酸检测体系包含以下核心项目：

• 总偏硅酸浓度测定：涵盖溶解态与胶体态的总量分析
• 形态分析：区分H₄SiO₄与H₃SiO₄^-等不同解离形态
• 温度相关性测试：评估20-80℃区间内浓度变化特性
• 共存离子干扰实验：重点考察Al³⁺、Fe³⁺对测定的影响
• 稳定性测试：监测样品在24/48/72小时后的浓度衰减率

检测范围

本检测方法适用于以下介质类型：

• 饮用水体系：包括市政供水、瓶装水及直饮水系统
• 工业循环水：涵盖电力、石化行业的冷却水系统
• 地热流体：温泉水中二氧化硅饱和度的判定
• 食品加工用水：饮料生产用水的品质控制
• 半导体行业：超纯水中痕量硅的监控（检出限0.1μg/L）
• 地质样品：地下水文研究中的矿物溶解度分析

检测方法

现行标准方法体系包含三大类技术路线：

• 钼蓝分光光度法（GB/T 12149-2017）
  • 原理：酸性条件下生成硅钼黄络合物→还原为钼蓝显色
  • 波长设定：815nm处测定吸光度值
  • 线性范围：0.05-5mg/L（可扩展至20mg/L）
• 电感耦合等离子体发射光谱法（ICP-OES）
  • 特征谱线选择：251.611nm（轴向观测）
  • 基体匹配要求：需控制TDS＜0.2%
  • 动态线性范围：0.01-100mg/L（RSD＜1.5%）
• 离子色谱法（HJ 84-2016）
  • 色谱柱选择：AS18阴离子交换柱（4×250mm）
  • 淋洗液体系：KOH梯度淋洗（10-45mM）
  • 抑制器电流：75mA（电导检测模式）

检测仪器

标准实验室配置应包含以下设备组：

• 分光光度系统组
  • 双光束紫外可见分光光度计（波长精度±0.5nm）
  • 恒温水浴槽（控温精度±0.1℃）
  • 石英比色皿（10/50mm光程可选）
• 光谱分析系统组
  • 全谱直读ICP-OES（轴向观测+CCD检测器）
  • 高盐雾化器（耐氢氟酸型）
  • 动态反应池（消除多原子离子干扰）
• 色谱分析系统组
  • 高压离子色谱仪（工作压力≥35MPa）
  • 在线脱气装置（氦气吹扫模式）
  • 自动进样器（进样精度±0.5μL）
• 辅助设备组
  • 超纯水系统（电阻率18.2MΩ·cm）
  • 微波消解仪（温控精度±1℃）
  • 真空抽滤装置（0.45μm水系滤膜）