光刻胶成分分析是通过多种技术手段，对光刻胶中的树脂、感光剂、溶剂、添加剂等成分进行定性和定量分析，以确定其组成及含量，为光刻胶的研发、生产和质量控制提供依据。
树脂含量、感光剂含量、溶剂成分、添加剂种类、分子量分布、官能团种类、元素组成、金属杂质含量、卤素含量、水分含量、灰分含量、挥发分含量、固化特性、溶解性、粘度、表面张力、折射率、热稳定性、玻璃化转变温度、分解温度、感光灵敏度、分辨率、对比度、线条边缘粗糙度、抗蚀性、附着力、硬度、耐磨性、耐化学腐蚀性、光学纯度、色度。
正性光刻胶、负性光刻胶、g 线光刻胶、i 线光刻胶、KrF 光刻胶、ArF 光刻胶、EUV 光刻胶、电子束光刻胶、X 射线光刻胶、离子束光刻胶、厚光刻胶、薄光刻胶、化学增幅型光刻胶、非化学增幅型光刻胶、水溶性光刻胶、溶剂型光刻胶、高温光刻胶、低温光刻胶、光刻胶干膜、光刻胶湿膜、彩色光刻胶、黑色光刻胶、白色光刻胶、透明光刻胶、半导体光刻胶、显示光刻胶、PCB 光刻胶、光聚合型光刻胶、光分解型光刻胶、光交联型光刻胶、热塑性光刻胶、热固性光刻胶等。
GB/T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范
GOST R 52250-2004 电子工程材料.光刻工艺抗蚀剂.通用规范
AIR FORCE A-A-59404-1999 便携式液压油型光刻胶配量器
IPC MI-660 5.3-1984 干电影光刻胶
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成分检测
