四探针法:通过线性排列的四探针施加电流并测量电压降,基于公式ρ=2πs(V/I)计算电阻率(s为探针间距),适用于大面积均匀薄膜的非破坏性测量。
范德堡法:采用对称四端电极配置消除接触电阻影响,通过测量不同电流方向的电压值计算各向异性参数。
霍尔效应测试:在垂直磁场中测量横向电压确定载流子浓度与迁移率(RH=VHt/(IB)),需配合低温恒温系统进行变温测试。
椭偏仪分析:利用偏振光反射特性反演膜厚与光学常数(n,k值),分辨率可达亚纳米级。
扫描电镜(SEM):通过二次电子成像观测表面形貌及晶界分布(加速电压5-30kV),配合能谱仪(EDS)进行元素定量分析。
X射线衍射(XRD):采用θ-2θ扫描模式获取晶体结构信息(晶面间距d=λ/(2sinθ)),计算晶粒尺寸与残余应力。
原子力显微镜(AFM):通过探针扫描获得三维表面形貌(分辨率0.1nm),定量分析表面粗糙度(Ra,Rq)。
台阶仪测量:机械触针扫描获得膜厚剖面曲线(量程1nm-1mm),需配合标准样块校准。
四探针测试仪:配备自动压力控制探针台(压力范围0.1-5N),集成高精度源表(电流分辨率1nA)与温控平台(-50℃~300℃)。
霍尔效应测试系统:包含电磁铁(磁场强度0.5T)、锁相放大器(频率范围DC-100kHz)及真空样品室(极限真空10⁻⁴Pa)。
台阶轮廓仪:采用12μm半径金刚石探针(垂直分辨率0.1nm),配备激光干涉定位系统。
扫描电子显微镜:场发射型SEM分辨率达0.8nm@15kV,配置背散射电子探测器与EBSD系统。
X射线衍射仪:配备Cu靶Kα射线源(λ=0.15406nm),测角仪角度精度0.0001。
原子力显微镜:轻敲模式工作频率300kHz,Z轴闭环控制精度0.02nm。
椭偏光谱仪:光谱范围190-2500nm(入射角45~90可调),配备自动旋转补偿器。
激光热导仪:采用闪光法测量热扩散系数(脉冲宽度0.1ms),温度范围RT~1500℃。
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